陰圖(tu)片準備_+裁(cai)切_+背面曝(pu)光_÷正面曝(pu)光一顯影(ying)沖洗😮‍💨一烘(hong)幹。去👀
黏-÷後(hou)曝光。
    ①陰圖(tu)片準備。
    a.測(ce)量陰圖片(pian)的尺寸并(bing)檢查最大(da)密度值，應(ying)大于或等(deng)于4.0。
    b．檢查陰(yin)圖片質量(liang)，查看網點(dian)清晰度、文(wen)字線條應(ying)整齊實💁🏼‍♀️在(zai)，
圖文部分(fen)有無劃傷(shang)和髒污，并(bing)用抗靜電(dian)毛刷清掃(sao)💘陰圖片。
    c．檢(jian)查圖文方(fang)向是否正(zheng)确，正面印(yin)刷時，從乳(ru)劑一側🎅🏿看(kan)圖文🏊🏾‍♀️應
是(shi)正向；而反(fan)面印刷（裏(li)印）時，從乳(ru)劑一側肴(yao)圖文應😌是(shi)反向。
    ②裁切(qie)。确定版材(cai)的型号和(he)厚度後，可(ke)對版材進(jin)行裁切，裁(cai)切時
應根(gen)據陰圖片(pian)尺寸，版邊(bian)預留12mm的夾(jia)持餘量，正(zheng)面朝上進(jin)行
裁切。
    ③背(bei)面曝光。是(shi)指從版材(cai)背面對印(yin)版進行全(quan)面均勻的(de)曝光，如👯🏾‍♂️圖(tu)
2 -8 (a)所示。将印(yin)版放人曝(pu)光裝置，把(ba)印版正面(mian)朝下放在(zai)曬版架
上(shang)吸緊，進行(hang)曝光。背面(mian)曝光主要(yao)目的是建(jian)立印版的(de)浮雕深度(du)，加強
聚酯(zhi)支撐層和(he)感光樹脂(zhi)層的黏着(zhe)力，并可減(jian)少正面曝(pu)光的時間(jian)。背面
曝光(guang)時間長短(duan)決定了版(ban)基的厚度(du)，曝光時間(jian)越長✋，版基(ji)越厚，印版(ban)硬
度也越(yue)大。

④正面曝(pu)光。也稱爲(wei)主曝光，是(shi)通過陰圖(tu)片對柔性(xing)版材的正(zheng)面
進行全(quan)面曝光，将(jiang)陰圖片上(shang)的圖文信(xin)息轉移到(dao)版材上的(de)過程。如圖(tu)
2-8 (b)所示。
    a．曝光(guang)光源。一般(ban)采用紫外(wai)燈管和高(gao)壓水銀燈(deng)作爲光源(yuan)。這種
燈曝(pu)光效率高(gao)，曝光時間(jian)短，提高了(le)印版的層(ceng)次範圍。若(ruo)要制作精(jing)細
網目版(ban)應采用2 -3kW的(de)超高壓水(shui)銀燈，以保(bao)證良好的(de)層次再現(xian)。
    b．具體操作(zuo)。一般可按(an)照下列順(shun)序進行正(zheng)面曝光。
    i．放(fang)置版材。将(jiang)版材正面(mian)朝上放在(zai)曬版台上(shang)，并撕下保(bao)護膜。
    ii．貼合(he)陰圖片。将(jiang)陰圖片的(de)乳劑面與(yu)版材的正(zheng)面貼合在(zai)一起🔞，
并用(yong)抗靜電刷(shua)子把版面(mian)和負片清(qing)掃幹淨。
    iii.覆(fu)蓋聚酯膜(mo)。未被負片(pian)覆蓋的版(ban)面用條狀(zhuang)聚酯或醋(cu)酸纖維膜(mo)😜
覆蓋之，以(yi)防止最上(shang)層的覆蓋(gai)膜粘到發(fa)黏的版面(mian)上，并爲抽(chou)真空創造(zao)
通氣條件(jian)。
    iv.覆蓋塑料(liao)片。将條狀(zhuang)聚酯膜、版(ban)材和負片(pian)用一張塑(su)料片統統(tong)
蓋住，用軟(ruan)布抹平，将(jiang)膜間的空(kong)氣排出。

    V.抽(chou)真空。抽真(zhen)空時應控(kong)制真空壓(ya)力，一般情(qing)況下，真空(kong)壓力
應在(zai)0. 8Pa以上。
    VI.曝光(guang)。抽真空後(hou)，開啓光源(yuan)，即可進行(hang)曝光。
    ．曝光(guang)時間。曝光(guang)時間取決(jue)于負片上(shang)圖文的種(zhong)類，細⛹🏻‍♂️線條(tiao)和網
點需(xu)要的曝光(guang)量比實地(di)陰文的多(duo)。曝光時間(jian)因光源的(de)強度、版的(de)厚度
不同(tong)而不同，對(dui)于厚爲2 -4mm厚(hou)的版，曝光(guang)時間一般(ban)是幾分鍾(zhong)到十
幾分(fen)鍾。
    柔性版(ban)曬版也可(ke)采用圓形(xing)曝光的方(fang)法，
如圖2-9所(suo)示。
    把按尺(chi)寸要求裁(cai)好的感光(guang)版材撕去(qu)保護
膜，用(yong)雙面膠帶(dai)把它的片(pian)基面粘貼(tie)在裝版輥(gun)
上，用有膠(jiao)的連接片(pian)和陰圖片(pian)連接好，把(ba)圖
像或文(wen)字位置與(yu)感光柔印(yin)版接口對(dui)好，拉緊
彈(dan)簧。開燈、開(kai)動馬達，使(shi)從A點到B點(dian)的
時間恰(qia)好等于平(ping)面曝光的(de)時間，就這(zhe)樣一面
轉(zhuan)動，一面曝(pu)光，直到最(zui)後圖文離(li)開B位
置。圓(yuan)形曬版對(dui)于曬制套(tao)色版很有(you)必要，可
解(jie)決套色不(bu)準和陰圖(tu)尺寸需計(ji)算糾正的(de)
問題。
    ⑤顯影(ying)沖洗。版面(mian)經曝光後(hou)，見光部分(fen)
硬化，未硬(ying)化的部位(wei)樹脂需要(yao)用顯影液(ye)溶劑
除去(qu)的工藝過(guo)程，稱爲顯(xian)影。如圖2-8 (c)
所(suo)示。

    顯影的(de)目的是除(chu)去未見光(guang)部分的感(gan)光樹脂，形(xing)成凸起的(de)😘浮雕😸圖
文(wen)。未曝光的(de)部位在溶(rong)劑的作用(yong)下用刷子(zi)除去，刷下(xia)去的深度(du)就是圖
文(wen)浮雕的高(gao)度。而顯影(ying)的時間由(you)版材的厚(hou)度和版面(mian)圖文的面(mian)積所确
定(ding)，不同的版(ban)材采用不(bu)同的顯影(ying)液。一般薄(bao)版，小圖文(wen)面積時，顯(xian)影
時間不(bu)超過10分鍾(zhong)。而對于厚(hou)版，圖文面(mian)積較大時(shi)，顯影時間(jian)可👌控
制在(zai)20分鍾左右(you)。若顯影時(shi)間不足會(hui)出現浮雕(diao)深度淺、底(di)面不平，
甚(shen)至出現浮(fu)渣等。反之(zhi)顯影時間(jian)過長，則會(hui)出現圖文(wen)破損、變形(xing)及版面高(gao)低不平等(deng)現象。一般(ban)顯影都是(shi)在專用顯(xian)影🧜🏼‍♀️機内完(wan)成。每次顯(xian)影後
都應(ying)适當補充(chong)新鮮的顯(xian)影液，以保(bao)持顯影液(ye)中樹脂含(han)量的穩🙆🏿定(ding)性。否
則會(hui)造成版面(mian)顯影的品(pin)質問題。
    ⑥烘(hong)幹。沖洗顯(xian)影後的印(yin)版，由于大(da)量溶劑滲(shen)入到版材(cai)内部，造
成(cheng)出現印版(ban)膨脹變厚(hou)，變得黏而(er)軟，圖文變(bian)形等現象(xiang)。如果依靠(kao)自然
揮發(fa)則需很長(zhang)時間，爲此(ci)應采用烘(hong)箱或熱風(feng)來進😈行幹(gan)燥。烘箱的(de)溫度
應保(bao)持在50—70C，幹燥(zao)時間厚版(ban)幹燥需要(yao)長一點，而(er)薄版則短(duan)一🧎🏻‍♀️‍➡️
點。幹燥(zao)時間和溫(wen)度不夠，不(bu)能充分幹(gan)燥，版面膨(peng)脹不均勻(yun)，印刷時
會(hui)出現爛版(ban)現象；溫度(du)過高會使(shi)版材變形(xing)，并不能複(fu)原，甚至變(bian)😥脆而
影響(xiang)印版壽命(ming)。如圖2-8 (d)所示(shi)。
    ⑦去黏。也稱(cheng)爲後處理(li)，印版經顯(xian)影幹燥後(hou)，版面具有(you)一定的👺黏(nian)
性。去黏的(de)目的就是(shi)去除版面(mian)的黏性，增(zeng)強版面的(de)着墨能力(li)。目前常
用(yong)的去黏方(fang)法有三種(zhong)，即光處理(li)法、化學處(chu)理法和噴(pen)粉😍處理法(fa)。而去
黏可(ke)在後曝光(guang)前也可在(zai)後曝光後(hou)進行。
    a．光處(chu)理法。用波(bo)長爲245nm的短(duan)波光源（也(ye)即UV-C光源），
對(dui)版面進行(hang)短時間的(de)照射，光照(zhao)時間取決(jue)于顯影和(he)烘幹🤑時😌間(jian)，以能達
到(dao)去黏爲宜(yi)。時間過短(duan)不能達到(dao)去黏目的(de)，時間過長(zhang)會造成印(yin)版開裂
變(bian)脆。如圖2-8 (e)所(suo)示。
    b．化學處(chu)理法。用化(hua)學溶劑對(dui)版面進行(hang)的去黏處(chu)理👺法，按所(suo)用
處理溶(rong)劑不同有(you)兩種方式(shi)，即氯化處(chu)理（漂白粉(fen)水溶液）和(he)溴~化處理(li)
（鹽酸和溴(xiu)化物溶液(ye)）。去黏處理(li)時間主要(yao)取決于版(ban)材的類型(xing)、去黏液
配(pei)方和溫度(du)等，去黏處(chu)理後須用(yong)清水沖洗(xi)幹淨。
    c．噴粉(fen)處理法。将(jiang)細玉米粉(fen)或滑石粉(fen)噴灑在版(ban)面上的處(chu)理方法👱🏼‍♂️，
這(zhe)種方法簡(jian)單易行，但(dan)不适合于(yu)細線條和(he)網目版🙆🏿，因(yin)爲💫噴🧑🏽‍🎄粉會(hui)導緻版
面(mian)堆墨。
    ⑧後曝(pu)光。就是在(zai)幹燥、去黏(nian)後對印版(ban)表面進行(hang)最後的全(quan)面而均
勻(yun)的曝光。目(mu)的是使版(ban)材内部沒(mei)有硬化的(de)樹脂徹底(di)交㊙️聯，全面(mian)硬化達
到(dao)工藝所需(xu)的硬度，提(ti)高印版的(de)耐印力和(he)耐溶劑性(xing)。但是若🔞印(yin)版的硬
度(du)過高，對細(xi)線條和網(wang)目調印版(ban)，會出現圖(tu)文變形、小(xiao)網點丢失(shi)等現
象，因(yin)此後曝光(guang)時間和光(guang)強度要控(kong)制好。如圖(tu)2-8 (f)所示。

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